半導體製造廠需要高純水（UPW）用於晶圓生產過程，高純水的電阻率要求達到18.2MΩ·cm，幾乎不含任何雜質。本案設計並安裝了一套12 CMH的超純水系統；該系統採用淨水處理工藝，包括預處理、反滲透（RO）和電去離子（EDI），確保產水水質達到10 MΩ·cm以上的高純度標準。
該超純水系統有效去除了水中的離子、有機物和微粒，保證了水質穩定性和生產工藝的可靠性。系統設計合理，運行穩定，滿足了客戶對高純水的嚴格要求，顯著提升了電子產品的生產品質和效率。
在電廠機組安裝或維修後進行試車與預試車階段時，需使用高純度除礦水（Demineralized Water, DM Water）以防止鍋爐與汽輪機產生結垢與腐蝕，確保設備運行穩定。
本案導入貨櫃型除礦水系統，日處理量高達20立方米，具備快速部署、模組整合、高移動性的優勢，為電廠短期或彈性用水需求提供理想解方案。
ROTEK 為印度知名電子大廠研發實驗室建置 500 LPH 超純水系統（RO＋EDI），穩定供應 18.0～18.2 MΩ·cm 等級超純水，支援高精密製程驗證與材料分析。系統採 雙級 RO 搭配 EDI 電去離子技術，有效降低離子負荷、無需化學再生，水質一致且環保穩定。
整合 PLC 自動控制與雲端遠端監控，即時掌握電阻率與系統狀態，並以模組化設計因應實驗室空間需求，為電子與半導體研發提供可靠的關鍵水源。
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